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  • 等離子體刻蝕面臨的挑戰(zhàn)
    等離子體刻蝕面臨的挑戰(zhàn)

    2023-08-21

    近幾十年來,等離子刻蝕技術(shù)已取得了長足發(fā)展。利用等離子刻蝕技術(shù),人們得以準(zhǔn)確地雕刻器件結(jié)構(gòu),從而為晶體管尺寸的縮小以及性能的提升提供了保障。...

  • 離子注入與傳統(tǒng)熱擴散工藝區(qū)別
    離子注入與傳統(tǒng)熱擴散工藝區(qū)別

    2023-08-18

    離子注入工藝是集成電路制造的主要工藝之一,它是指將離子束加速到一定能量(一般在keV 至Mev 量級范圍內(nèi)),然后注入固體材料表層內(nèi),以改變材料表層...

  • 電鍍有幾種
    電鍍有幾種

    2023-08-18

    1、五金電鍍 分為常規(guī)五金包括銅、鎳、硌;高級五金包括金、銀;貴族五金包括金剛石、磚石。分別有掛鍍、滾鍍、龍門鍍,金、銀一般是以首飾掛鍍?yōu)橹鳎?..

  • 雙重曝光 Double Exposure (DE)
    雙重曝光 Double Exposure (DE)

    2023-08-17

    雙重曝光(Double Exposure, DE)是指在光刻膠覆蓋的晶片上分別進行兩次曝光。兩次曝光是在同樣的光刻膠上進行的,但使用不同的掩模版。 雙重曝光工...

  • 刻蝕剖面 Etch Cross-section
    刻蝕剖面 Etch Cross-section

    2023-08-17

    刻蝕剖面指的是被刻蝕圖形的側(cè)壁形狀。有兩種基本的刻蝕剖面:各向同性和各向異性刻蝕剖面。各向同性的刻蝕剖面是在所有方向上(橫向和縱向)以相同的...

  • 等離子刻蝕的應(yīng)用案例
    等離子刻蝕的應(yīng)用案例

    2023-08-16

    等離子刻蝕主要應(yīng)用在微電子制作工藝中,所有主要的處理對象是硅,用于精確圖形轉(zhuǎn)移。此外其還廣泛應(yīng)用于等離子刻蝕平板、薄膜刻蝕以及纖維刻蝕中。 1...

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